活性炭吸附凈化除臭裝置 活性炭吸附除臭設備 光催化除臭設備 光氧催化廢氣處理裝置 UV光解凈化器設備 光解氧化除臭設備 uv光解除臭設備 廢氣酸霧凈化塔
光催化(光催化)+光催化劑(催化劑)(催化劑)的單詞。催化劑是一種光的照射下,本身并沒有改變,能促進化學物質,光觸媒是利用自然光能為化學反應所需的能量,來產生催化作用,鼓舞周圍的氧氣和水進入高度氧化力陰離子。幾乎所有的可分解的有機物質,對人體和有害和一些無機物質,不僅能加速反應,也可以用自然界的否認,不造成浪費資源和額外的污染的形成。***代表性的例子“光合作用”植物,利用光能為氧氣和水。
光催化劑仍然在1971年東京***學畢業的藤島教授趙發現。在一個實驗鈦氧化物單晶放在水,發現水分解成氫氣和氧氣。這種效果是“這么多,藤島效應”(本田- Fujishima效應)是已知的,藤島的結合教授的名字和他的指導教師——東京***學的過程比總統健康狀況的一個名字。
1992年***屆***際研討會上二氧化鈦光觸媒在,日本研究機構發表了很多光催化劑的新觀念,并將其應用于氮凈化提出的研究。所以相關專利的數量也***多,其他催化劑相關技術覆蓋了催化劑混合過程,催化劑結構、催化劑的支持者,催化劑固定方法,催化性能測試等。
光催化氧化是發生在作用下可見光催化、半導體和空氣作為催化劑,根據光能量,有機物降解成二氧化碳和水和其他無毒無害的原料。公司利用人工紫色外光作為能量來源,***殊處理,我們公司在活動后,***強的反應效率***的納米二氧化鈦催化劑,浪費氣味氣體治療后可以達到更***的凈化效果。
在半導體光催化氧化反應,通過紫外線照射納米二氧化鈦催化劑,納米二氧化鈦催化劑吸收光能量產生電子和空穴的飛躍,進一步結合后產生的電子-空穴對,和廢氣表面吸附的水(H2O)和氧氣(O2)產生氧化反應非常活波的基和超氧離子基。可以把各種各樣的有機廢氣等碳氫化合物、醛類、酚類、醇、硫醇、苯、氨、氮、硫和其它VOC有機和無機物質作用下的光催化氧化還原成二氧化碳(CO2),水(H2O)和其他無毒無害的物質,降解凈化廢氣被激活后,氣味消失的同時,也有廢氣凈化的效果,同時細菌和病毒的繁殖管可以有效地去除,因為光催化氧化反應過程中沒有任何添加劑,所以不會產生二次污染,運行成本只有用電,經常需要更改部分,相當的企業使用節能環保。
設備工作氣體溫度在攝氏60℃以下,濕度低于90%,無固體顆粒,應該只是氣體處理組件,滿足上述三個條件可以達到***的凈化效果,比如濕度和溫度應該作為預處理,應當沒有固體顆粒在廢氣處理和***量的水蒸氣進入設備,它將直接影響到除臭效果,即使沒有影響,光催化氧化時間控制在合理的范圍內。
可以刪除各種有機廢氣等碳氫化合物、醛類、酚類、醇、硫醇、苯、氨、氮、硫和其它VOC有機和無機物質。原子的有機物質,如鹵代烴、染料、含氮的有機化合物,有機磷農藥也有很***的去除效果,只要反應時間和反應達到一定可以實現完全的氧化率,可以說幾乎沒有選擇性,氫氧基氧化對象可以與任何現有的化學反應。除臭凈化效果可以達到96%以上,除臭效果******超過1993發出惡臭物質排放標準(gb14554 - 93)。
光催化氧化是發生在作用下可見光催化、光催化氧化反應基于半導體和空氣作為催化劑,根據光能量,有機物降解成二氧化碳和水。Bek半導體是***有效的反應使用納米二氧化鈦光催化劑,在蜂窩陶瓷載體使用***殊處理,達到理想的效果。
光催化氧化反應,通過紫外線照射對納米二氧化鈦光催化劑,和表面吸附的水(H2O)和氧氣(O2)反應生成氧化非常活波羥基基(哦)和超氧化物離子基(O2 - 0)可以發送各種各樣的廢氣,如甲醛、苯、氨、氮、硫和其它VOC有機物質,無機物質的作用下光催化氧化,減少二氧化碳(CO2),水(H2O)和其他無毒無害的材料,有除臭的效果,消毒,殺菌,同時,因為在光催化氧化反應的過程中沒有任何添加劑,所以不會產生二次污染。
Bek除臭設備的核心納米光催化(GC - 100)是一種催化材料吸收光線,可以產生表面催化反應的材料,在***定波長的紫外線光催化催化材料(GC - 100),其表面的光催化氧化還原反應。光催化催化材料(GC - 100)在其表面的吸收光子后電子(E)和孔(H +),將吸收光能為化學能,光催化作用。